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可以根據客戶要求提供平面圓靶，方靶，臺階靶、旋轉靶均可加工、顆粒、網、箔、粉末、坩堝、異形件定制。鼎偉新材料提供鍍膜靶材：銅、鋁、鉻、鎢、鉬、鎳、鉿、鉭、鈮、鋯 AZO ITO 石墨 陶瓷..
高純鉻靶的目標雜質控制：如果靶中的夾雜物數量過多，則在濺射過程中可能在晶片上形成顆粒，從而導致互連線短路或斷開，這將嚴重影響膜的性能。高純鉻靶中的大多數夾雜物是在冶煉和鑄造過程中..
高純鉻靶的目標晶粒尺寸和分布：通常，目標材料具有多晶結構，并且晶粒尺寸可以在微米到毫米的數量級上。 對于相同組成的靶材，細顆粒靶材的濺射速率比粗顆粒高純鉻靶的濺射速率快，而晶粒尺寸..
東莞市鼎偉靶材有限公司是專業生產高純金屬材料，蒸發鍍膜材料以及濺射靶材的高新技術企業應用開發的科技型民營股份制工貿有限公司。公司以青島大學和青島科技大學蒸發材料專業為技術依托，擁..
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