-
- 東莞市鼎偉新材料有限公司
-
全國服務咨詢熱線:
18681059472
18681059472
熱門搜索：
硫化鉛靶材
硫化鉛靶材：光電轉換領域的隱形冠軍 在紅外探測器和太陽能..三碲化二銻靶材
三碲化二銻靶材：半導體制造的關鍵材料 三碲化二銻（Sb?Te..硒化鉻靶材
硒化鉻靶材：半導體行業的新星材料 硒化鉻靶材作為一種新興..硼化鉭靶材
硼化鉭靶材：高性能材料的新星 硼化鉭靶材是一種在高溫、高..一氧化硅靶材
一氧化硅靶材：半導體制造中的關鍵材料在半導體和光電材料..鈦酸鉍靶材
鈦酸鉍靶材：光電領域的隱形冠軍在光電功能材料的大家族中..銻化鎵靶材
這種材料能讓你的手機屏幕更清晰 銻化鎵靶材正在改變顯示技..碳化鈮靶材
碳化鈮靶材：硬質合金領域的璀璨明珠 碳化鈮靶材是一種高性..硫化鉬靶材
硫化鉬靶材：薄膜制備領域的新星硫化鉬靶材正成為薄膜制備..釔鐵石榴石靶材
釔鐵石榴石靶材：精密鍍膜的核心材料釔鐵石榴石靶材在現代..
氧化錫銻靶材：光電領域的隱形冠軍
在真空鍍膜領域，氧化錫銻靶材憑借其獨特的性能優勢，成為制備透明導電薄膜的核心材料。
這種陶瓷靶材由氧化錫和氧化銻按特定比例燒結而成，在可見光區透光率超過85%，電阻率可低至10^-4Ω·cm量級，完美平衡了透明性與導電性這對天然矛盾體。
氧化錫銻薄膜的制備主要采用磁控濺射工藝。
當高能粒子轟擊靶材表面時，錫、銻、氧原子以分子形式濺射到基板上，通過精確控制濺射功率、氣壓和基板溫度等參數，可制備出厚度僅100-500納米的均勻薄膜。
這種工藝的優勢在于膜層致密性好，與玻璃、PET等基材的附著力強，且可實現大面積連續生產。
在實際應用中，氧化錫銻薄膜展現出三大核心優勢：首先，其化學穩定性遠超ITO材料，在高溫高濕環境下仍能保持性能穩定；其次，原料儲量豐富，成本僅為ITO靶材的1/3；更重要的是，通過調節銻摻雜濃度（通常3-10%），可精確調控薄膜的載流子濃度，滿足不同場景的方阻要求。
目前該材料已廣泛應用于建筑節能玻璃、光伏電池前電極等領域，在柔性顯示領域更是展現出替代ITO的潛力。
值得注意的是，氧化錫銻靶材存在脆性大、熱導率低的物理局限，這要求濺射過程中必須采用水冷背板并控制升溫速率。
隨著射頻濺射技術的進步，新型旋轉靶材設計使利用率提升至80%以上，有效降低了生產成本。
未來，通過納米摻雜和微結構調控，這一材料的遷移率還有望突破50cm2/V·s，為下一代柔性電子器件提供更優解決方案。
您是第4445215位訪客
版權所有 ©2025-06-05 粵ICP備15045043號-6
東莞市鼎偉新材料有限公司 保留所有權利.
技術支持： 八方資源網 免責聲明 管理員入口 網站地圖手機網站
地址：廣東省 東莞市 東莞市南城區民間金融大廈
聯系人：肖先生先生
微信帳號：
