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東莞市鼎偉新材料有限公司專業生產:鎳釩合金靶、高純鉻靶、鈦鋁靶、鉻鋁靶、鎳鉻合金靶、鎢鈦合金靶材等;公司先后研發的蒸發材料、濺射靶材系列產品廣泛應用到國內外眾多知名電子、太陽能企業當中,以較高的性價比,成功發替代了國外進口產品,頗受用戶好評。

武漢氮化鋁靶材 氮化銅靶材 庫存充足
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產品描述

產地廣東 品牌鼎偉新材料 貨號陶瓷靶材 品名氮化物靶材 純度99.9%
TiN有著誘人的金、熔點高、硬度大、化學穩定性好、與金屬的潤濕小的結構材料、并具有較高的導電性和超導性,可應用于高溫結構材料和超導材料
武漢氮化鋁靶材
【制備或來源】可由鈦和氮在1200℃直接反應制得。涂層可由四氯化鈦、氮氣、氫氣混合氣體通過氣相沉積法形成。二氮化二鈦由金屬鈦在900~1000℃的氮或氨中加熱而得。四氮三鈦由四氯化鈦在1000℃的氨中加熱而得
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AlN可穩定到2200℃。室溫強度高,且強度隨溫度的升高下降較慢。導熱性好,熱膨脹系數小,是良好的耐熱沖擊材料。抗熔融金屬侵蝕的能力強,是熔鑄純鐵、鋁或鋁合金理想的坩堝材料。氮化鋁還是電絕緣體,介電性能良好,用作電器元件也很有希望?;壉砻娴牡X涂層,能保護它在退火時免受離子的注入。氮化鋁還是由六方氮化硼轉變為立方氮化硼的催化劑。室溫下與水緩慢反應.可由在氨或氮氣氛中800~1000℃合成,產物為白色到灰藍色粉末?;蛴葾l2O3-C-N2體系在1600~1750℃反應合成,產物為灰白色粉末?;蚵然X與氨經氣相反應制得.涂層可由AlCl3-NH3體系通過氣相沉積法合成
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氮化鈦(TiN)具有典型的NaCl型結構,屬面心立方點陣,晶格常數a=0.4241nm,其中鈦原子位于面心立方的角頂。TiN是非化學計量化合物,其穩定的組成范圍為TiN0.37-TiN1.16,氮的含量可以在一定的范圍內變化而不引起TiN結構的變化。TiN粉末一般呈黃褐色,超細TiN粉末呈黑色,而TiN晶體呈金。TiN熔點為2950℃,密度為5.43-5.44g/cm3,莫氏硬度8-9,抗熱沖擊性好。TiN熔點比大多數過渡金屬氮化物的熔點高,而密度卻比大多數金屬氮化物低,因此是一種很有特色的耐熱材料。TiN的晶體結構與TiC的晶體結構相似,只是將其中的C原子置換成N原子
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